Wide band-gap silicon-carbon alloys deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition / C., Summonte; R., Rizzoli; M., Bianconi; A., Desalvo; D., Iencinella; Giorgis, Fabrizio. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 96:(2004), p. 3987.

Wide band-gap silicon-carbon alloys deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition

GIORGIS, FABRIZIO
2004

2004
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11583/1401105
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo