Optoelectronic and structural properties of amorphous silicon-carbon alloys deposited by low-power electron-cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition

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Tipo di pubblicazione: Articolo su rivista
Tipologia MIUR: Contributo su Rivista > Articolo in rivista
Titolo: Optoelectronic and structural properties of amorphous silicon-carbon alloys deposited by low-power electron-cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition
Autori: J.P. Conde; V. Chu; M.F. Da Silva; A. Kling; Z. Dai; J.C. Soares; S. Arekat; A. Fedorov; M.N. Berberan-Santos; Giorgis F.; C.F. Pirri
Autori di ateneo:
Titolo del periodico: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Tipo di referee: Tipo non specificato
Volume: 85
Intervallo pagine: 3327-
ISSN: 0021-8979
Data: 1999
Status: Pubblicato
Lingua della pubblicazione: Inglese
Parole chiave:
Dipartimenti (originale): NON SPECIFICATO
Dipartimenti: DISAT - Dipartimento Scienza Applicata e Tecnologia
URL correlate:
    Area disciplinare:
    Data di deposito: 09 Dic 2007 00:07
    Data ultima modifica (IRIS): 24 Set 2016 09:37:25
    Data inserimento (PORTO): 26 Set 2016 04:31
    Permalink: http://porto.polito.it/id/eprint/1661133
    Link resolver URL: Link resolver link
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