Compositional, optoelectronic and structural properties of amorphous hydrogenated silicon-nitrogen alloys deposited by PECVD / Giorgis, Fabrizio; P., Rava; R., Galloni; R., Rizzoli; C., Summonte; G., Crovini; F., Demichelis; Pirri, Candido; Tresso, Elena Maria; V., Rigato. - In: JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS. - ISSN 0022-3093. - 198/199:(1996), pp. 596-599.

Compositional, optoelectronic and structural properties of amorphous hydrogenated silicon-nitrogen alloys deposited by PECVD

GIORGIS, FABRIZIO;PIRRI, Candido;TRESSO, Elena Maria;
1996

1996
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11583/1661229
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo