Archivio Istituzionale della Ricerca“The formation of Ti-silicides by a metal vapour vacuum are ion source implantation and annealing process” / Wang, Shuangbao; H., Liang; P. R., Zhu. - In: VACUUM. - ISSN 0042-207X. - 59:(2000), pp. 919-921.
“The formation of Ti-silicides by a metal vapour vacuum are ion source implantation and annealing process”
WANG, SHUANGBAO;
2000
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https://hdl.handle.net/11583/1915302
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