Defect location in Traditional vs. Web applications - an empirical investigation

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Tipo di pubblicazione: Articolo in atti di convegno
Tipologia MIUR: Contributo in Atti di Convegno (Proceeding) > Contributo in atti di convegno
Titolo: Defect location in Traditional vs. Web applications - an empirical investigation
Autori: Torchiano M.; Filippo Ricca; Alessandro Marchetto
Autori di ateneo:
Intervallo pagine: pp. 1-10
ISBN: 9781424451241
Titolo del convegno: 11th IEEE International Symposium on Web Systems Evolution 2009 (WSE2009)
Luogo dell'evento: Edmonton (Canada)
Data dell'evento: September 25-26
Rilevanza dell'evento: Internazionale
Abstract: So far, few attempts were carried out in literature to understand the specific nature of Web bugs and their distribution among the tiers of applications' architecture. In this paper we present an experimental investigation conducted with five pairs of homologous applications (Web and traditional) and 780 real bugs taken from SourceForge aimed at studying the distributions of bugs in Web and traditional applications. The investigation follows a rigorous experimental procedure and it was conducted in the context of three bachelor theses. The study results, although preliminarily, provide a clear-cut empirical evidence that the presentation layer in Web applications is more defect-prone when compared to analogous traditional applications
Data: 2009
Status: Pubblicato
Lingua della pubblicazione: Inglese
Parole chiave:
Dipartimenti (originale): DAUIN - Dipartimento di Automatica Informatica
Dipartimenti: DAUIN - Dipartimento di Automatica e Informatica
URL correlate:
    Area disciplinare: Area 09 - Ingegneria industriale e dell'informazione > SISTEMI DI ELABORAZIONE DELLE INFORMAZIONI
    Data di deposito: 28 Gen 2010 10:31
    Data ultima modifica (IRIS): 15 Ott 2013 12:48:21
    Data inserimento (PORTO): 27 Ott 2014 18:24
    Numero Identificativo (DOI): 10.1109/WSE.2009.5631245
    Permalink: http://porto.polito.it/id/eprint/2263805
    Link resolver URL: Link resolver link
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