Kinetics of the Amorphous-to-nanocrystalline Transformation In Fe73.5cu1nb3si13.5b9

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Tipo di pubblicazione: Articolo su rivista
Tipologia MIUR: Contributo su Rivista > Articolo in rivista
Titolo: Kinetics of the Amorphous-to-nanocrystalline Transformation In Fe73.5cu1nb3si13.5b9
Autori: P. Allia,M. Baricco,P. Tiberto,F. Vinai
Autori di ateneo:
Titolo del periodico: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Volume: 74
Intervallo pagine: pp. 3137-3143
Numero di pagine: 6
ISSN: 0021-8979
Abstract: Isothermal measurements of the electrical resistance R were performed in samples of the alloy Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9 at temperatures where the nanocrystalline phase develops. At each temperature, nanocrystallization is associated to a very slow decrease of R(t) compared to conventional crystallization processes. X-ray-diffraction data were obtained on similar samples annealed at the same temperatures for selected times. The evolving nanocrystalline fraction turns out to be essentially proportional to the variation in the electrical resistance. The form of the kinetic law describing the R(t) decays is obtained by making use of a novel procedure, developed to analyze time-dependent properties characterized by a complex behavior. Nanocrystallization in the considered alloy appears as initially described by a Johnson-Mehl-Avrami kinetics with exponent n congruent-to 4, suggesting that the early stages of the process involve homogeneous nucleation and three-dimensional grain growth. For longer times, corresponding to the hearth of the nanocrystallization process, and at all temperatures, the functional form of the kinetic law drastically changes to a much slower power law of the type R is similar to At(-alpha). The exponent alpha turns out to be essentially independent of temperature. Such a change presumably reflects a reduction in the grain growth velocity and/or in the nucleation rate
Data: 1993
Status: Pubblicato
Lingua della pubblicazione:
Parole chiave:
Dipartimenti (originale): NON SPECIFICATO
Dipartimenti: DISAT - Dipartimento Scienza Applicata e Tecnologia
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    Area disciplinare:
    Data di deposito: 02 Lug 2012 08:39
    Data ultima modifica (IRIS): 12 Feb 2015 17:20:02
    Data inserimento (PORTO): 13 Feb 2015 01:09
    Numero Identificativo (DOI): 10.1063/1.354581
    Permalink: http://porto.polito.it/id/eprint/2498130
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