Patterning of SU-8 resist with Digital Micromirror Device (DMD) maskless lithography / Wang, Tianran; Quaglio, Marzia; Pirri, Candido; Y. C., Cheng; D., Busacker; F., Cerrina. - STAMPA. - 7274:(2009). (Intervento presentato al convegno Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering tenutosi a San Jose) [10.1117/12.814831].

Patterning of SU-8 resist with Digital Micromirror Device (DMD) maskless lithography

WANG, TIANRAN;QUAGLIO, Marzia;PIRRI, Candido;
2009

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11583/2503365
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