Archivio Istituzionale della RicercaEvidence for the existence of scaling laws correlating the deposition parameters and the Raman spectra features in thin a-C:N:H films deposited by reactive r.f. sputtering / Messina, G.; Santangelo, S.; Fanchini, G.; Tagliaferro, Alberto. - In: VACUUM. - ISSN 0042-207X. - 67:(2002), pp. 537-542.
Evidence for the existence of scaling laws correlating the deposition parameters and the Raman spectra features in thin a-C:N:H films deposited by reactive r.f. sputtering
TAGLIAFERRO, Alberto
2002
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https://hdl.handle.net/11583/1406420
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