Wide band-gap silicon-carbon alloys deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition / C., Summonte; R., Rizzoli; M., Bianconi; A., Desalvo; D., Iencinella; Giorgis, Fabrizio. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 96:(2004), p. 3987.
Wide band-gap silicon-carbon alloys deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition
GIORGIS, FABRIZIO
2004
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https://hdl.handle.net/11583/1401105
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